【名词&注释】
发展方向、普遍性(universality)、程序控制(program control)、中心线(center line)、不必要的(unnecessary)、电容充放电(charge and discharge of a capacitor)、视神经胶质瘤(optic glioma)、两次曝光(double exposure)
[单选题]X线管焦点到成像介质的距离称为
A. 焦距
B. 焦栅距
C. 焦-片距
D. 焦-物距
E. 物-恰片距
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举一反三：
[单选题]关于准直器的作用，错误的是
A. 显示照射野
B. 显示中心线
C. 屏蔽多余原射线
D. 吸收二次射线
E. 病人接受剂量限制到最低
[多选题]眼眶平片示眼眶普遍性增大，常见于下列哪些情况
A. 泪腺肿瘤
B. 眶内炎性假瘤
C. 眶内血管瘤
D. 视神经胶质瘤(optic glioma)
E. 以上都不是
[单选题]颅脑MRA技术不包括
A. 可采用TOF-MRA，PC-MRA及CE-MRA技术
B. 线圈头部正交线圈、头颈联合阵列线圈
C. 3D-TOF-MRA主要用于慢速血流的血管成像
D. 2D-TOF-MRA:成像序列采用2D-FLASH序列
E. 2D-TOF-MRA:主要用于矢状窦、乙状窦的成像
[单选题]下列说法错误的是
A. 按照体积来分，X线机分为小型、中型及大型三种
B. 程序控制X线机是工频X线机的一个重要发展方向
C. 按主电路的工作频率来分，X线机分为工频、逆变和电容充放电(charge and discharge of a capacitor)X线机三种
D. 按用途来分，不同功率X线发生装置和各种辅助装置可组成各种专用X线机
E. X线机发生装置由控制装置、高压发生器及X线管组件三部分组成
[单选题]下列哪项属两次曝光(double exposure)的摄影体位 ( )
A. 足前后位
B. 足侧位
C. 足内斜位
D. 足外斜位
E. 全足正位
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