在替牙期往往要充分利用替牙间隙(Leeway space)，它是

【名词&注释】

硅溶胶、二氧化锆、上颌第二前磨牙(maxillary second premolars)、牙间隙(interdentium)、正硅酸乙酯(teos)、上颌第一前磨牙(maxillary first premolar)、充分利用(make full use)、近中移动、乳牙列(deciduous dentition)

[单选题]在替牙期往往要充分利用^{(make full use)}替牙间隙(Leeway space)，它是

A. 在乳牙列^{(deciduous dentition)}上、下颌之间(C、D、E)牙冠近远中宽度总和之差
B. 上颌或下颌的乳牙(C、D、E)和后继恒牙(3、4、5)之间近远中宽度总和之差
C. 乳牙列^{(deciduous dentition)}前牙部分，上、下颌间牙间隙总和之差
D. 乳牙列^{(deciduous dentition)}在下颌骨静止位时，上、下颌C、D、E之颌间间隙
E. 中性时上、下颌恒切牙的前后的距离

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举一反三：

[单选题]镍铬合金铸造时，包埋材料应用

A. 石膏类包埋材料
B. 磷酸盐类包埋材料
C. 正硅酸乙酯包埋材料
D. 硅溶胶包埋材料
E. 二氧化锆类包埋材料

[单选题]下列哪个牙存在斜嵴 ( )

A. 上颌第一前磨牙
B. 上颌第一磨牙
C. 上颌第二前磨牙
D. 下颌第一磨牙
E. 下颌第二磨牙

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